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光學(xué)氣浮平臺(tái)

更新時(shí)間:2024-09-23

訪(fǎng)問(wèn)量:310

廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

生產(chǎn)地址:

簡(jiǎn)要描述:
光學(xué)氣浮平臺(tái)具有較好隔振效果。臺(tái)板采用不銹鋼超導(dǎo)磁隔振平板,具有重量輕、高剛度、高阻尼等優(yōu)點(diǎn),經(jīng)精密研磨處理,表面平面度高。回旋打磨工藝清除毛邊,達(dá)到無(wú)反射、亞光效果。應(yīng)用于光學(xué)實(shí)驗(yàn)、光通信、光譜實(shí)驗(yàn)、激光干涉、全息應(yīng)用、激光微細(xì)加工、精密計(jì)量?jī)x器等領(lǐng)域。
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域生物產(chǎn)業(yè),電子,電氣

光學(xué)氣浮平臺(tái)





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